年产1000吨三氟化氮项⽬（特⽓⾏业纯度99.996%)

三氟化氮（Azòt Trifluoride），化学式NF3，是⼀种强氧化剂。作为⼀种重要的⼯业特种⽓体，具有⼴泛的应⽤领域。
在微电⼦⼯业中，三氟化氮是⼀种优良的等离⼦蚀刻⽓体，在半导体芯导体芯幽杳显⽰器、光纤、光伏电池等制造领域，三氟化氮主要⽤作等离⼦蚀刻⽔唓位刻⽔化氮主要清洗剂。它还可以⽤于⾼能化学激光器，通过与氢反应在瞬间放出⼤量烮泭量烮洗剂。它还可以应⽤。三氟化氮还可⽤作⾼能燃料，并且在⽕箭发射中作为氧化剂和推迀和推迿

Trifluorid Azòt, fòmil chimik NF3, se yon ajan oksidan fò. Kòm yon gaz espesyal endistriyèl enpòtan, li gen yon pakèt aplikasyon.
Nan endistri mikwo-elektwonik, trifluorid nitwojèn se yon ekselan gaz plasma grav; Nan chip semi-kondiktè a, ekspozisyon panèl plat, fib optik, selil fotovoltaik ak lòt jaden fabrikasyon, trifluorid nitwojèn se sitou itilize kòm gaz grave plasma ak ajan netwayaj kavite reyaksyon.
Li kapab tou itilize nan lazè chimik ki gen gwo enèji pou reyalize aplikasyon li pa reyaji ak idwojèn pou emèt yon gwo kantite chalè nan yon moman. Yo itilize trifluorid nitwojèn tou kòm yon gaz ki gen anpil enèji epi kòm yon oksidan ak propellent nan lansman fize.